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华海清科申请一种晶圆抛光方法、抛光装置和处理设备专利,提高特定晶圆的化学机械抛光效率:抛光
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金融界2025年6月20日消息,国家知识产权局信息显示,华海清科股份有限公司申请一项名为“一种晶圆抛光方法、抛光装置和处理设备”的专利,公开号CN120170629A,申请日期为2025年05月抛光
2025-08-23
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