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苏州同冠微电子取得防止抛光液飞溅的半导体加工用抛光装置专利,防止抛光液飞溅:抛光

金融界2025年8月21日消息,国家知识产权局信息显示,苏州同冠微电子有限公司取得一项名为“一种防止抛光液飞溅的半导体加工用抛光装置”的专利,授权公告号CN223235979U,申请日期为2024年10月抛光

专利摘要显示,本实用新型公开了一种防止抛光液飞溅的半导体加工用抛光装置,包括工作台、工作台的下端固定连接有起到储物作用的储液箱及工作台的上端左右对称的螺栓连接有电动伸缩杆;所述储液箱的内部以及上侧分别设置有收集结构和限位结构,其中收集结构包括有支撑板、过滤网、密封板和进液孔,限位结构包括有连接板、限位槽、连接口、腔体、抽气管和抽气泵;所述电动伸缩杆的上端分别固定连接在第二防护框的左右两端,且第二防护框的内部呈等间距的转动连接有连接轴抛光

天眼查资料显示,苏州同冠微电子有限公司,成立于2012年,位于苏州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业抛光 。企业注册资本41605.55374万人民币。通过天眼查大数据分析,苏州同冠微电子有限公司参与招投标项目12次,财产线索方面有商标信息7条,专利信息85条,此外企业还拥有行政许可13个。

来源:金融界

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